Baureihe KP300

Der kompakte Druckregler der Serie KP300 ist für die Integration in Geräte ausgelegt, die eine stabile, wiederholbare Druckregelung erfordern. Zu den Anwendungen zählen die Heliumkühlung von Waferrückseiten, die Druckregelung in Versorgungssystemen für flüssige Precursor und die MOCVD-Dampfversorgung.

Verfügbare Druckbereiche: 0–50 oder 0–100 Torr
Druckregelgenauigkeit: ±0.5%F.S.
Regelspanne: 1–100% des Messbereichsendwerts
Ansprechzeit: ≤1s

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Druckregelparameter

Verfügbare Druckbereiche	0–50 oder 0–100 Torr
Druckregelgenauigkeit	±0.5%F.S.
Regelspanne	1–100% des Messbereichsendwerts
Ansprechzeit	≤1s

Parameter der Durchflusserfassung

Durchflussmessbereich (Ammoniak)	0~20/50/100 sccm (weitere auf Anfrage)
Genauigkeit der Durchflusserfassung	0~25%F.S.: <0.3%F.S. >25%F.S.: 1%RD

Leckrate

Externe Leckrate	≤1×10⁻¹² Pa·m³/s (Stickstoff)
Interne Leckrate	<0.1 sccm (Stickstoff)

Elektrische Parameter

Stromversorgung	18~32V (24V empfohlen)
Drucksignalausgang	0~10V
Durchflusssignalausgang	0~5V

Kommunikationsschnittstelle

Kommunikation

RS485, EtherCAT, DeviceNet

Mechanische Parameter

Steckverbindertyp	1/4 VCR
Einlassdruckbereich	1.5~3 bar

Umgebungsbedingungen

Betriebstemperatur

15~40℃

Messbedingungen und Hinweise

Die KP300-Serie ist besonders kompakt und für die Systemintegration geeignet.
Wirtschaftliche Lösung mit hoher Präzision und hoher Auflösung.
Geeignet für Heliumkühlsysteme für Halbleiterwafer, Druckregelsysteme für Flüssigquellen und die Dampfdruckregelung bei MOCVD.

Lassen Sie vor der Bestellung Fluidverträglichkeit, Werkstoffe, Anschlüsse und verfügbare Konfiguration von unserem Team bestätigen.