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FCS / SYSTEMS & SOLUTIONSSistema integrado de control de gases QT-COMP

El aspecto del producto varía según la configuración.

Soluciones de control de fluidos (FCS)

Sistema integrado de control de gases QT-COMP

QT-COMP es un sistema compacto de control de gases sin tuberías para fabricantes OEM e integradores de sistemas. Los módulos de caudal y presión se pueden combinar con válvulas, filtros y cámaras de mezcla en un colector modular. Hay configuraciones de 3 a 9 canales. El montaje y las pruebas en fábrica simplifican la puesta en marcha, mientras que el acceso superior a los módulos facilita el mantenimiento en equipos con espacio limitado.

Rango de caudal
0.06~3 mln/min a 1~50 Ln/min (equivalente en N₂)
Exactitud (caudal)
±0.5%Rd ±0.1%FS (estándar); ±1%FS para rangos bajos
Rango de presión
2~100 mbar a 0.2~10 bar (abs/manométrica)
Exactitud (presión)
±0.5%FS
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Configuración e idoneidad confirmadas para su aplicación.

Prestaciones principales

Rango de caudal0.06~3 mln/min a 1~50 Ln/min (equivalente en N₂), rangos superiores personalizables
Exactitud del caudal±0.5% Rd ±0.1% FS (estándar); ±1% FS para rangos ≤3.5 mln/min
Relación de regulación1:50 (hasta 1:187.5 en modo digital)
Repetibilidad<0.1%FS; <0.2%Rd
Tiempo de estabilización≤1.2s (típico por encima de 5%FS)
Estabilidad del control< ±0.1%FS (típico para 1 Ln/min N₂)
Respuesta del sensor<0.1s
Coeficiente de temperatura del cero<0.05%FS/°C
Coeficiente de temperatura del alcance<0.05%Rd/°C
Sensibilidad a la presión0.1%Rd/bar típico (N₂)
Tiempo de calentamiento2 min para ±2%FS; 30 min para una exactitud óptima

Módulo de presión

Rango del sensor de presión2~100 mbar a 0.2~10 bar (presión abs o manométrica seleccionable)
Rango de control de presión5~100 mbar a 0.5~10 bar (controlador electrónico de presión)
Exactitud de presión±0.5%FS

Mecánica y electricidad

Presión máxima de funcionamiento10 bar (manométrica)
Temperatura de funcionamiento-10°C ~ +50°C
Configuración de canales3~9 canales, ampliable
Material del colectorAluminio anodizado; acero inoxidable 316L (opcional)
Piezas en contacto con el fluidoAcero inoxidable 316L
Material del selloEPDM estándar; Viton/Kalrez (FFKM) opcional
Módulo de filtroFiltro de acero inoxidable sinterizado, 0.5/2/7/15 µm seleccionable
Tipos de válvulaVálvulas de control normalmente cerradas/abiertas; electroválvulas de corte/de 3 vías
Valor Kv de la válvulaMáx. Kv=1.0
Temperatura máxima de la válvula50°C
Alimentación15~24 Vdc
Potencia (controlador)Máx. 320 mA
Potencia (caudalímetro)~70 mA
Potencia del solenoide3W
Salida analógica0-10Vdc (carga>2kΩ); 0-20mA/4-20mA (carga<375Ω)
Punto de ajuste analógico0(4)-20mA; 0-(5)10Vdc
Com. digitalRS232/RS485, Modbus RTU/TCP, DeviceNet, PROFIBUS DP, PROFINET, EtherCAT, FLOW-BUS
Conexión eléctricaAnalógico/RS232/PROFIBUS: D-sub macho de 9 pines; DeviceNet: conector macho de 5 pines M12; Modbus/EtherCAT/PROFINET: RJ45
MontajeOrificios de montaje inferiores para panel/soporte; cualquier orientación
ProtecciónIP40
Montaje en sala limpiaDisponible bajo pedido

Condiciones y notas de medición

  1. QT-COMP utiliza tecnología de montaje superficial sin tuberías e integra todos los módulos funcionales en un colector común, lo que reduce considerablemente el riesgo de fugas y el espacio de instalación frente a las conexiones de tuberías tradicionales.
  2. Combine caudalímetros/controladores de caudal másico, sensores/controladores de presión, filtros, cámaras de mezcla, válvulas de corte y válvulas de 3 vías según sea necesario.
  3. Las conexiones inferiores facilitan el mantenimiento desde arriba y la sustitución de módulos sin desconectar las tuberías inferiores.
  4. Probado y calibrado completamente en fábrica para una instalación de conectar y usar, lo que reduce considerablemente el tiempo y el costo de puesta en marcha en el lugar.
  5. Admite múltiples protocolos de comunicación industrial para facilitar la integración con sistemas de supervisión PLC/DCS/DCIM.
  6. Se pueden configurar racores de sellado frontal, racores de compresión o bridas para satisfacer los requisitos de distintas industrias.
  7. Aplicaciones habituales: CVD/grabado de semiconductores, control del gas portador en instrumentos analíticos, mezcla de gases para biorreactores, control de procesos químicos, recubrimiento al vacío/por plasma/por pulverización catódica, control de combustión, evaluación de catalizadores, etc.

Confirme con nuestro equipo la compatibilidad del fluido, los materiales, las conexiones y la configuración disponible antes de realizar el pedido.

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