实验室培育钻石：CVD工艺气体流量控制

良好的可靠性和重复性是气拓质量流量控制器和压力控制器的主要特性，适用于使用化学气相沉积制造合成实验室培育钻石。培育单批闪亮钻石需要长达300到600小时，整个过程需要保持相同的工艺条件以便获得恒定品质的钻石。

传统钻石形成于地幔中，经过数百万年时间，在高温和极端压力下形成。近几十年，天然钻石迎来了从气相合成中生长出来的合成钻石。使用微波等离子体化学气相沉积（CVD）技术制造的实验室合成钻石越来越受到关注，主要用于制作珠宝首饰，也用于工业切割和抛光目的。

对于批次CVD工艺，需要恒定的低压力（高真空）。此外，在整个过程中，气态反应物需要以相同的恒定流量供应到反应器。甲烷和氢气作为前驱体供应到反应室用于促进金刚石的形成。